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ITO靶材氧壓燒結爐

日期:2019/7/24 14:22:44

ITO 靶材氧壓燒結爐

 

铟錫的氧化物是實現電學傳導和光學透明的絕佳組合。作爲有色金屬氧化物,簡稱爲 ITO 的氧化铟錫在平板上具有很好的導電性和透明性。 ITO 是由氧化铟和氧化錫粉末按一定比例混合後經過一系列的生産工藝加工成型,再高溫氣氛燒結 (1700 度,通氧氣燒結 ) 形成的黑灰色陶瓷半導體。通常靶材尺寸越大,濺射到平板上的拼縫就越少,價值也越高。

 

冷等靜壓成型,高壓氧氣保護燒結法:將 ITO 粉體冷等靜壓成大塊陶瓷坯體,然後在 01~0.9MPa 的純氧環境, 1500~1600 ℃高溫下燒結,可以生産出理論密度達 95% 的陶瓷靶。該法生産成本低,適用于工業化批量生産。

 

我公司的 PHS/PVS 型氧壓燒結爐結構安全、可靠,溫度均勻性好,可批量生産。 PHS 型適合平面靶材燒結, PVS 型適合旋轉靶材燒結。

 

氣壓燒結爐

 

 

技術參數

 

 

典型應用

 
  • ITO 靶材
     

 

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